- 加熱爐設備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設備
- 壓片設備
- 輥壓設備
- 切割設備
- 磨拋設備
- 清洗設備
- 電池研發設備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實驗室設備
Ga:ZnO晶體基片
- 產品概述:
- II?-?VI族晶體有可能在不久的將來用于突出拍攝上。他們的直接帶隙的性質和大范圍的透明度以及一個帶隙,為有趣的設備提供了廣泛選擇的可能性。
免責聲明:
本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等)僅用于宣傳用途,僅供參考。由于更新不及時和網站不可預知的BUG可能會造成數據與實物的偏差,請勿復制或者截圖。如果您對參數有異議,或者想了解產品詳細信息及更多參數,請與本公司銷售人員聯系。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,請勿將此參數用于招標文件或者合同,科晶公司會不定期完善和修改網站任何信息,恕不另行通知,請您諒解。
如果您需要下載產品的電子版技術文檔,說明書(在線閱覽),裝箱單,與售后安裝條件等文件,請點擊上方的附件下載模塊中選取。商城產品僅針對大陸地區客戶,購買前請與工作人員溝通,以免給您帶來不便。
技術參數產品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
技術參數
|
晶體結構: | 六方 a=3.252A , c=5.313A | 生長方法: | Melt | 硬度: | 4 mohscale | 密度: | ~5.0g/cm3 | 熔點: | 1975oC | 帶隙: | 3.37eV | 比熱容: | 0.125cal/gm | 傳導性: | N type | 電阻率: | 0.04ohm-cm +/- factor of 2 , N type | 導熱系數: | 0.006cal/cm/ oK | 熱膨脹系數: | 2.90x10-6/oK | 位錯密度: | <4x104/cm2 | 表面粗糙度: | <5A | 厚度: | 0.35mm; 0.50mm and 1.0mm |
|
產品規格
|
Ga:ZnO <0001> N+ type,鎵摻雜,10x10x0.5mm、鋅面拋光; Ga:ZnO <0001> N+ type,鎵摻雜,5x5x0.5mm、鋅面拋光 ; 注:可按照客戶要求加工尺寸及方向。 |
標準包裝
|
1000級超凈室100級超凈袋 |
免責聲明:
本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等)僅用于宣傳用途,僅供參考。由于更新不及時和網站不可預知的BUG可能會造成數據與實物的偏差,請勿復制或者截圖。如果您對參數有異議,或者想了解產品詳細信息及更多參數,請與本公司銷售人員聯系。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,請勿將此參數用于招標文件或者合同,科晶公司會不定期完善和修改網站任何信息,恕不另行通知,請您諒解。
如果您需要下載產品的電子版技術文檔,說明書(在線閱覽),裝箱單,與售后安裝條件等文件,請點擊上方的附件下載模塊中選取。商城產品僅針對大陸地區客戶,購買前請與工作人員溝通,以免給您帶來不便。