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高真空腔體
型號:
HVC-SS
產品概述:
這是一個預制多功能真空腔體,可以根據客戶需求定制,例如作為真空濺射腔體(可在頂部添加多個濺射靶頭),CVD,ALD等等。同時,也可以單獨作為一個高真空儲存盒使用。
免責聲明: 本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等)僅用于宣傳用途,僅供參考。由于更新不及時和網站不可預知的BUG可能會造成數據與實物的偏差,請勿復制或者截圖。如果您對參數有異議,或者想了解產品詳細信息及更多參數,請與本公司銷售人員聯系。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,請勿將此參數用于招標文件或者合同,科晶公司會不定期完善和修改網站任何信息,恕不另行通知,請您諒解。 如果您需要下載產品的電子版技術文檔,說明書(在線閱覽),裝箱單,與售后安裝條件等文件,請點擊上方的附件下載模塊中選取。商城產品僅針對大陸地區客戶,購買前請與工作人員溝通,以免給您帶來不便。
技術參數產品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
腔體

·304不銹鋼制造,并配備有加強筋

·內部尺寸:470mm L×445mm D×522mm H

·配備φ380 mm 密封門,配備150 mm玻璃觀察窗

·采用硅膠O型密封圈

·工作溫度范圍: -15 to 150°C


真空/壓力

·E-3 torr 使用機械泵,具體型號請點擊

·4E-5使用分子泵,具體型號請點擊


接口/配套裝置

·在腔體的右側安裝有一個KF40接口,用于連接真空泵

·共計4個KF25接口,三個在腔體右側一個在左側

·共計三個用于充放氣的真閥,兩個在在腔體后面,一個在左側

·頂部蓋板可以開啟,用于連接客戶定制的設備

·接口與閥門可以按照客戶的要求進行定制

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應用

·磁控濺射腔體:

 一個完整的磁控濺射系統包含:1個真空腔體,磁控濺射靶頭,濺射電源(DC or RF),真空泵系統(機械泵或者分子泵),水冷系統。

 圖示為一個使用真空腔體搭建的完成磁控濺射系統(DC/RF可切換)

 此真空腔體可以安裝單個或者多個濺射靶頭。最多安裝3個2"靶頭或5個1"靶頭。

 如果您有定制需求,請聯系我們對靶頭匹配等事宜進行討論,我們可以在真空腔體上根據您的需求安裝好靶頭。

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應用案例

·可安裝3個2"靶頭或5個1"靶頭

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可選

·請點擊圖1選擇通用的真空配件,點擊圖2選擇可以擺放此腔體的真空泵系統點擊 圖3選擇相關磁控濺射配件

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尺寸

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質保

·質保一年


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